特許
J-GLOBAL ID:200903068674381173
シリコーンゴム成形品の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
小谷 悦司
, 植木 久一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-163470
公開番号(公開出願番号):特開2004-009391
出願日: 2002年06月04日
公開日(公表日): 2004年01月15日
要約:
【課題】シリコーンゴム成形品中に残留した低分子量シロキサンを低減化する方法を提供する。【解決手段】成型品は通気壁を有する処理容器に収容した状態で処理槽内に入れて減圧・加熱処理を行う。効率良く加熱することの出来る遠赤外線加熱が好ましい。シリコーンゴム成形品を製造する最終工程においては、窒素雰囲気下で加熱後、処理槽内を圧力10Pa〜1×10-4Paの真空雰囲気下とし、該成形品を100〜200°Cに加熱する。処理後は成型品の酸化劣化を防ぐため、処理槽内に窒素ガスを導入して解除する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
シリコーンゴム成形品を製造する最終工程において、
処理槽内を圧力10Pa〜1×10-4Paの真空雰囲気下とし、該成形品を100〜200°Cに加熱することを特徴とするシリコーンゴム成形品の製造方法。
IPC (2件):
FI (3件):
B29C71/02
, C08J7/00 301
, C08J7/00
Fターム (16件):
4F073AA05
, 4F073AA23
, 4F073BA33
, 4F073GA01
, 4F073HA03
, 4F201AA45
, 4F201AK04
, 4F201AM25
, 4F201AM28
, 4F201AM30
, 4F201BA07
, 4F201BQ02
, 4F201BR02
, 4F201BR05
, 4F201BR11
, 4F201BR14
引用特許:
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