特許
J-GLOBAL ID：200903068693022192
封止装置及びこれを利用した表示装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
渡邊 隆
, 志賀 正武
, 村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-325767
公開番号（公開出願番号）：特開2008-123977
出願日： 2006年12月01日
公開日（公表日）： 2008年05月29日
要約：
【課題】光を部分的に照射するためのマスクを具備する封止装置及びこれを利用した表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】相互対向配置される第1基板と第2基板の縁に封止材を介在させて封止材に光を照射して第1基板及び第2基板を接合させることに使用される封止装置において、封止材が介在された第1基板と第2基板が装着されるステージ、ステージの一方の側に配置されて封止材に光が照射されるように封止材の形成位置に対応して透過部が形成されたマスク及びマスクの透過部を通じて封止材に光を照射する光ヘッドを含み、マスクの透過部には封止材に照射される光の照射量を調節するためのパターンが形成される。【選択図】図4a
請求項（抜粋）：
相互対向配置される第1基板と第2基板の縁に封止材を介在させて前記封止材に光を照射して第1基板及び第2基板を接合させるのに使用される封止装置において、
封止材が介在された第1基板と第2基板が装着されるステージと、
前記ステージの一方の側に配置されて、前記封止材に光が照射されるように前記封止材の形成位置に対応して透過部が形成されたマスクと、
前記マスクの透過部を通じて前記封止材に光を照射する光ヘッドを含み、
前記マスクの透過部には封止材に照射される前記光の照射量を調節するためのパターンが形成されたことを特徴とする封止装置。
IPC (4件)：
H05B 33/04
, H01L 51/50
, H05B 33/10
, G09F 9/00
H05B33/04
, H05B33/14 A
, H05B33/10
, G09F9/00 338
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC23
, 3K107CC45
, 3K107EE42
, 3K107EE55
, 3K107FF15
, 3K107GG26
, 3K107GG37
, 5G435AA13
, 5G435AA14
, 5G435AA17
, 5G435BB05
, 5G435KK05
, 5G435KK10
出願人引用 (2件)
-
韓国特許出願公開第2001-0084380号明細書
-
韓国特許出願公開第2002-0051153号明細書
審査官引用 (3件)
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