特許
J-GLOBAL ID：200903068709416595

露光装置

発明者：
村田 実

村田 実 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-266918
公開番号（公開出願番号）：特開平9-115800
出願日： 1995年10月16日
公開日（公表日）： 1997年05月02日
要約：
【要約】【課題】 露光装置において、コストアップ及びスループットの低下を招くことなくレーザ干渉計のレーザビームの波長を補正する。【解決手段】 レチクル側のレーザ干渉計22a及びウエハ側のレーザ干渉計23aのそれぞれのレーザビームの周辺の空気の温度をそれぞれ測定する温度センサ25,26及び大気圧及び湿度等を測定する環境センサ31を設ける。上位CPUである主制御系13は、レチクルステージ制御系27及びウエハステージ制御系28にレチクル及びウエハの移動を指示し(ステップ201)、その移動時間中に温度センサ25,26、及び環境センサ31の測定値を読出し、環境データの変化に伴うレーザビームの波長を補正し(ステップ202)、その補正された波長を用いて次のレチクルステージ及びウエハステージの走査露光時の位置制御を行う。
請求項（抜粋）：
転写用パターンの形成されたマスクの位置決めを行うためのマスクステージと、感光性の基板の位置決めを行うための基板ステージと、計測用の光ビームを用いて前記基板ステージの位置を計測する干渉計と、該干渉計の計測値及び前記光ビームの波長に基づいて前記基板ステージを駆動するステージ制御手段とを備え、該ステージ制御手段により前記基板ステージを駆動して前記マスクと前記基板との位置合わせを行って前記マスクのパターンを前記基板上の各ショット領域に転写露光する露光装置において、前記干渉計の前記光ビームの光路の環境変化を検出するセンサを設け、前記ステージ制御手段は、前記基板ステージのステッピング駆動動作、及び前記マスクパターンの前記ショット領域への転写露光動作の少なくとも一方と並列に前記センサの検出結果に基づいて前記光ビームの波長の変動量を求めることを特徴とする露光装置。
FI (2件)：
H01L 21/30 516 B ,  H01L 21/30 525 Z
引用特許：
審査官引用 (4件)
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