特許
J-GLOBAL ID：200903068717904949
半導体装置製造設備およびその制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-000044
公開番号（公開出願番号）：特開2001-189363
出願日： 2000年01月04日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
要約：
【要約】【課題】 半導体装置製造設備において、半導体装置の製造工期を短縮することが可能な半導体装置製造設備およびその制御方法を提供する。【解決手段】 複数の半導体ウェハからなる処理ロットの中から半導体ウェハを逐次取出して処理し、処理ロットの次に処理されるべき次処理ロットを待機させる待機ポートを含む複数の処理装置と、待機ポートに搬送されるべきロットを格納するストッカとを備える半導体装置製造設備の制御方法であって、予測工程40、41では、処理装置から処理待ちのウェハがなくなる時刻を予測する。時刻決定工程42では、処理待ちのウェハがなくなる時刻を用いて、待機ポートに次処理ロットを搬送する作業を開始する搬送作業開始時刻を決定する。ロット選択工程45では次処理ロットを選択する。搬送工程では搬送作業開始時刻になってから次処理ロットを処理装置に搬送する。
請求項（抜粋）：
複数の半導体ウェハからなる処理ロットの中から前記半導体ウェハを逐次取出して処理し、前記処理ロットの次に処理されるべき次処理ロットを待機させる待機ポートを含む複数の処理装置と、前記待機ポートに搬送されるべきロットを格納するストッカとを備える半導体装置製造設備の制御方法であって、処理装置における処理待ちの半導体ウェハのうち最後の半導体ウェハの処理が開始されることにより前記処理装置から処理待ちの半導体ウェハがなくなる時刻を予測する予測工程と、前記処理待ちの半導体ウェハがなくなる時刻を用いて、前記最後の半導体ウェハの処理後に連続して次の半導体ウェハの処理を開始することができるように前記待機ポートに次処理ロットを搬送する作業を開始する搬送作業開始時刻を決定する時刻決定工程と、前記次処理ロットを選択するロット選択工程と、前記搬送作業開始時刻になってから前記次処理ロットを前記処理装置に搬送する搬送工程とを備える、半導体装置製造設備の制御方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/68
, B65G 43/08 Z
3F027AA10
, 3F027BA02
, 3F027CA02
, 3F027FA02
, 3F027FA04
, 5F031CA02
, 5F031DA17
, 5F031FA01
, 5F031FA03
, 5F031FA12
, 5F031FA15
, 5F031GA43
, 5F031GA58
, 5F031MA04
, 5F031MA28
, 5F031MA29
, 5F031MA32
, 5F031PA04
