レジスト画像形成材、及びそのレジスト画像形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-252619
公開番号（公開出願番号）：特開2005-122126
出願日： 2004年08月31日
公開日（公表日）： 2005年05月12日
要約：

【課題】レジスト画像形成材における光重合性組成物層を直接描画法により露光し、現像処理してレジスト画像を形成するにおいて、高解像性を発現するレジスト画像形成材、及びそのレジスト画像形成方法を提供する。【解決手段】被加工基板上に光重合性組成物の層を有するレジスト画像形成材であって、該光重合性組成物における重合禁止剤の含有量が、5〜60ppmであるレジスト画像形成材、及び、該レジスト画像形成材の光重合性組成物層を、直接描画法により露光し、現像処理するレジスト画像形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

被加工基板上に光重合性組成物の層を有するレジスト画像形成材であって、該光重合性組成物における重合禁止剤の含有量が、5〜60ppmであることを特徴とするレジスト画像形成材。

IPC (4件)：

G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/029 , H01L21/027

FI (5件)：

G03F7/004 502 , G03F7/004 503Z , G03F7/027 502 , G03F7/029 , H01L21/30 502R

Fターム (22件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AB15 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BC13 , 2H025BC65 , 2H025BC83 , 2H025CA14 , 2H025CA28 , 2H025CA41 , 2H025CB13 , 2H025CB14 , 2H025CB16 , 2H025CB45 , 2H025CC20 , 2H025FA10 , 2H025FA17

引用特許：

審査官引用 (9件)

感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法およびプリント配線板の製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-113572 出願人：日立化成工業株式会社
特開平4-172352
特開平2-125262

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