特許

J-GLOBAL ID：200903068768932572

オルガノシロキサン系高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板保護用皮膜

発明者： 加藤 英人 ,  上田 貴史 ,  降籏 智欣
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-276897
公開番号（公開出願番号）：特開2002-088158
出願日： 2000年09月12日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
要約：

【要約】【解決手段】 下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する重量平均分子量500〜200,000のオルガノシロキサン系高分子化合物。【化1】(式中、Rl〜R4は同一でも異なってもよい炭素数1〜8の1価炭化水素基を示す。また、nは1〜1000の整数である。)【効果】 本発明の新規なオルガノシロキサン系高分子化合物を使用することにより、幅広い波長の光で露光でき、且つ酸素障害を受けず容易に薄膜を形成することが可能な光硬化性樹脂組成物を製造することができる。更に、耐ドライエッチング性に優れた微細なパターンを形成することが可能であり、更にこの組成物から得られる硬化皮膜は基材との密着性、耐熱性、電気絶縁性に優れ、電気、電子部品、半導体素子等の保護膜として好適に用いられる。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する重量平均分子量500〜200,000のオルガノシロキサン系高分子化合物。【化1】(式中、Rl〜R4は同一でも異なってもよい炭素数1〜8の1価炭化水素基を示す。また、nは1〜1000の整数である。)

IPC (7件)：

C08G 77/52 ,  C08G 8/38 ,  C08G 12/46 ,  C08G 59/62 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/075 521 ,  H05K 3/28

FI (7件)：

C08G 77/52 ,  C08G 8/38 ,  C08G 12/46 ,  C08G 59/62 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/075 521 ,  H05K 3/28 D

Fターム (49件)：

2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AA20 ,  2H025AB16 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CA48 ,  2H025CB33 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC17 ,  2H025DA02 ,  2H025DA40 ,  4J033CA02 ,  4J033CA12 ,  4J033CA19 ,  4J033EA12 ,  4J033EA45 ,  4J033HA02 ,  4J033HB10 ,  4J035BA02 ,  4J035CA01M ,  4J035CA02U ,  4J035CA021 ,  4J035CA08M ,  4J035CA081 ,  4J035CA13U ,  4J035CA131 ,  4J035HA02 ,  4J035HB05 ,  4J035LA03 ,  4J035LB16 ,  4J036AA01 ,  4J036DA05 ,  4J036DB05 ,  4J036FB08 ,  4J036FB16 ,  4J036GA22 ,  4J036GA24 ,  4J036GA25 ,  4J036GA26 ,  4J036HA02 ,  4J036JA09 ,  5E314AA27 ,  5E314GG03 ,  5E314GG08 ,  5E314GG11

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平2-225521
  
• ポリカーボネート重合体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-005256   出願人：大阪瓦斯株式会社
• 特開昭48-064199