特許

J-GLOBAL ID：200903068797215537

オプト・エレクトロニク撮像装置用焦点面および検出器、製造方法およびオプト・エレクトロニク撮像装置

発明者： ファンク・アンゾルゲ ,  ミヒャエル・ファイル ,  ヘルムット・リーデル ,  ジークフリード・クラウブネル ,  ヴィリー・プラッツ
出願人/特許権者： アストリウム・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング
代理人 (1件)： 石戸 久子 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-028524
公開番号（公開出願番号）：特開2001-284567
出願日： 2001年02月05日
公開日（公表日）： 2001年10月12日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 オプト・エレクトロニク撮像装置の既存の欠点を解消し、オプト・エレクトロニク撮像装置の構造を簡単にし、および広い視野を可能にする。【解決手段】 オプト・エレクトロニク撮像装置用焦点面10は、撮像のための検出器11からなる装置および検出器11を保持するための検出器支持体15ないしFPA支持体を有している。検出器11はそれぞれ少なくとも1つのシリコン素子から形成され、シリコン素子はたわみ支持基板13と結合されている。焦点面ないし検出器11は曲率を有するので、湾曲像領域を撮像することができる。オプト・エレクトロニク撮像装置用焦点面の製造方法において、たわみ検出器11を形成するために、少なくとも1つのシリコン素子がそれぞれたわみ支持基板13と結合され、この場合、検出器支持体15は曲率を有し且つたわみ検出器11が検出器支持体15の曲率に適合される。

請求項（抜粋）：

検出器(11)がそれぞれ少なくとも1つのシリコン素子(71)から製造され、および焦点面(10;50;60)および/または検出器(11)が、湾曲像領域を撮像するための曲率を有する、撮像のための検出器(11)および検出器(11)を保持するための検出器支持体(15)からなる装置を備えたオプト・エレクトロニク撮像装置用焦点面において、検出器(11)がたわみ性を有するように形成され、この場合、シリコン素子(71)が薄くされ且つたわみ支持基板(13)と結合されている、ことを特徴とするオプト・エレクトロニク撮像装置用焦点面。

IPC (5件)：

H01L 27/14 ,  G02B 23/06 ,  G02B 23/12 ,  G03B 15/00 ,  H04N 5/335

FI (5件)：

G02B 23/06 ,  G02B 23/12 ,  G03B 15/00 W ,  H04N 5/335 U ,  H01L 27/14 D

引用特許：

審査官引用 (10件)

• 固体撮像カメラ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-254435   出願人：日本電気株式会社
• 撮像装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-061576   出願人：キヤノン株式会社
• 半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-053514   出願人：富士通株式会社
• 画像検出装置、アレイ基板および画像検出装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-240487   出願人：株式会社東芝
• 基板切断方法及び基板切断装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-027837   出願人：キヤノン株式会社
• 特開平1-202989
  
• イメージセンサ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-254530   出願人：松下電器産業株式会社
• 特開平2-207570
  
• 特開昭62-190755
  
• シリコンウエハ半製品とその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-335352   出願人：セイコー電子工業株式会社