特許

J-GLOBAL ID：200903068853915997

セレン及び又はテルルを含み、ルテニウム及び又はロジウムを含む処理物の浸出方法。

発明者： 永井 燈文 ,  河野 雄仁
出願人/特許権者： 日鉱金属株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-096413
公開番号（公開出願番号）：特開2007-270233
出願日： 2006年03月31日
公開日（公表日）： 2007年10月18日
要約：

【課題】セレン及び又はテルルを含む還元残渣中に含まれるルテニウム及び又はロジウムを濃縮する方法を見出すこと。【解決手段】少なくともセレン及び又はテルルを含み、ルテニウム及び又はロジウムを含む残渣を55〜150g/Lのスラリー濃度で、セレン及び又はテルルのモル数の合計に対して水酸化ナトリウムのモル数が2〜5倍である水溶液に空気を吹き込み、銀-塩化銀電極基準の酸化還元電位が-150〜-240mVに成った時点で、浸出処理を中止することにより浸出液中にセレン及び又はテルルを分離し、濃縮率で4倍以上のルテニウム及び又はロジウムを残渣に残すセレン及び又はテルルを含み、ルテニウム及び又はロジウムを含む処理物の浸出方法。

請求項（抜粋）：

少なくともセレン及び又はテルルを含み、ルテニウム及び又はロジウムを含む残渣を55〜150g/Lのスラリー濃度で、セレン及び又はテルルのモル数の合計に対して水酸化ナトリウムのモル数が2〜5倍である水溶液に空気を吹き込み、 銀-塩化銀電極基準の酸化還元電位が-150〜-240mVに成った時点で、浸出処理を中止することにより浸出液中にセレン及び又はテルルを分離し、濃縮率で4倍以上のルテニウム及び又はロジウムを残渣に残すこと を特徴とするセレン及び又はテルルを含み、ルテニウム及び又はロジウムを含む処理物の浸出方法。

IPC (3件)：

C22B 11/00 ,  C22B 3/04 ,  C22B 7/00

FI (3件)：

C22B11/00 101 ,  C22B3/00 A ,  C22B7/00 H

Fターム (6件)：

4K001AA22 ,  4K001AA26 ,  4K001AA41 ,  4K001BA17 ,  4K001CA05 ,  4K001DB08

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 銅電解殿物の処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-212633   出願人：日鉱金属株式会社
• セレン、テルルを含む還元滓の浸出方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-365907   出願人：日鉱金属株式会社