特許
J-GLOBAL ID：200903068873975287

弾性表面波霧化装置

発明者：
石上 陽平

石上 陽平 について

, 
尼木 勉

尼木 勉 について


出願人/特許権者：
パナソニック電工株式会社

パナソニック電工株式会社 について


代理人 (3件)： 板谷 康夫 ,  田口 勝美 ,  水田 愼一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-332742
公開番号（公開出願番号）：特開2009-154058
出願日： 2007年12月25日
公開日（公表日）： 2009年07月16日
要約：
【課題】弾性表面波霧化装置において、基板上の一部領域に液体を保持する簡単かつ低コストな構成により、液体が電極に付着したり基板外に漏れたりすることを防いで耐久性を高めると共に、その領域内で液体を広げて効率的に霧化することができるようにする。【解決手段】弾性表面波を生成する弾性表面波基板11の表面に供給される液体を弾性表面波によって霧化する弾性表面波霧化装置10において、基板11の表面の一部に他部よりも表面粗さの大きい粗面領域14を形成し、粗面領域14に供給された液体が粗面領域14内に保持されるようにした。これによって、弾性表面波によって液体が粗面領域14内で薄く広り効率的な霧化ができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
弾性表面波を生成する弾性表面波基板を備え、 前記基板の表面に供給される液体を該表面に生成される弾性表面波によって霧化する弾性表面波霧化装置において、 前記基板の表面の一部に他部よりも表面粗さの大きい粗面領域が形成されており、 前記粗面領域に供給された液体が該領域内に保持されるようにしたことを特徴とする弾性表面波霧化装置。
IPC (1件)：
B05B 17/06
FI (1件)：
B05B17/06
Fターム (6件)：
4D074BB02 ,  4D074CC02 ,  4D074DD02 ,  4D074DD34 ,  4D074FF06 ,  4D074FF11
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM