EUV露光用マスクブランクスおよびその製造方法、EUV露光用マスク

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金山聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-143352
公開番号（公開出願番号）：特開2006-324268
出願日： 2005年05月17日
公開日（公表日）： 2006年11月30日
要約：

【課題】EUV露光用マスクの製造工程等において膜剥がれを生じない導電膜を基板側面に設けたEUV露光用マスクブランクスとその製造方法を提供し、EUV露光後、EUV露光用マスクが強固に静電チャックに付着してしまい、取り外しにくくなるということが無く、静電チャックに簡単に着脱できるEUV露光用マスクを提供する。【解決手段】基板の一方の主面上に、EUV光を反射する反射層と、該反射層上に前記EUV光を吸収する吸収層とを少なくとも設けてパターン形成層としたEUV露光用マスクブランクスであって、前記基板の他方の主面上に導電層が形成されており、前記基板の相対する主面上の前記パターン形成層と前記導電層が、前記基板の側面に設けられた一箇所以上の側面導電膜により導通されていることを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板の一方の主面上に、EUV光を反射する反射層と、該反射層上に前記EUV光を吸収する吸収層とを少なくとも設けてパターン形成層としたEUV露光用マスクブランクスであって、前記基板の他方の主面上に導電層が形成されており、前記基板の相対する主面上の前記パターン形成層と前記導電層が、前記基板の側面に設けられた一箇所以上の側面導電膜により導通されていることを特徴とするEUV露光用マスクブランクス。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , C23C 14/04 , G03F 1/14

FI (3件)：

H01L21/30 531M , C23C14/04 Z , G03F1/14 G

Fターム (26件)：

2H095BA10 , 2H095BB25 , 2H095BC16 , 2H095BC26 , 4K029AA04 , 4K029AA08 , 4K029AA09 , 4K029AA24 , 4K029BA07 , 4K029BA58 , 4K029BB03 , 4K029BC03 , 4K029BD00 , 4K029CA05 , 4K029FA01 , 4K029JA01 , 4K029JA06 , 5F046AA25 , 5F046CB03 , 5F046CB17 , 5F046CC09 , 5F046GA03 , 5F046GA12 , 5F046GD07 , 5F046GD10 , 5F046GD16

引用特許：

出願人引用 (2件)

特公平7-27198号公報
反射型X線マスク及びその製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-016698 出願人：株式会社ニコン

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