反射型X線マスク及びその製造法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-016698
公開番号（公開出願番号）：特開平8-213303
出願日： 1995年02月03日
公開日（公表日）： 1996年08月20日
要約：

【要約】【目的】多層膜のX線反射率低下をさせることのない反射型マスク及びその製造法を提供することにある。【構成】反射型X線マスクは、X線反射膜2ならびにパターン状に形成された中間層3及びX線吸収体層4とを有し、前記中間層3と前記X線吸収体層4とのエッチング選択比が5以上とする構成である。

請求項（抜粋）：

X線反射膜ならびにパターン状に形成された中間層及びX線吸収体層とから構成された反射型X線マスクにおいて、前記中間層と前記X線吸収体層とのエッチング選択比が5以上であることを特徴とする反射型X線マスク。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 1/08 , H01L 21/3065 , H01L 21/306

FI (3件)：

H01L 21/30 531 M , H01L 21/302 H , H01L 21/306 S

引用特許：

審査官引用 (2件)

前のページに戻る