特許
J-GLOBAL ID：200903068926765760
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
横川 邦明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-242022
公開番号（公開出願番号）：特開平8-101493
出願日： 1994年09月09日
公開日（公表日）： 1996年04月16日
要約：
【要約】【目的】 エッチングによるハーフトーン材料膜のパターニングを高精度の寸法精度にする。そのために好適な位相シフトマスク用ブランクを提供する。【構成】 (1)透明基板1上に、ハーフトーン材料膜2と、ハーフトーン材料膜2に対して選択エッチングが可能な金属膜5と、レジスト膜3とを積層してブランクを作製し、(2)レジスト膜3をパターニングし、(3)そのレジスト膜3’をマスクとして金属膜5をエッチングによってパターニングし、(4)パターニングされたレジスト膜3’及び金属膜5’をマスクとしてハーフトーン材料膜2をエッチングし、(5)レジスト膜3’及び金属膜5’を剥離する。金属膜5’をマスクとしてハーフトーン材料膜2をエッチングするとき、金属膜5’はエッチングされないので、ハーフトーン材料膜2を高精度に寸法制御できる。
請求項（抜粋）：
透明基板と、その透明基板上に積層されたハーフトーン材料膜と、そのハーフトーン材料膜上に積層されていてそのハーフトーン材料膜に対して選択エッチングが可能な金属膜とを有することを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
