特許
J-GLOBAL ID:200903068938284600

高分子光導波路及びその製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (9件): 中村 稔 ,  大塚 文昭 ,  熊倉 禎男 ,  宍戸 嘉一 ,  今城 俊夫 ,  小川 信夫 ,  村社 厚夫 ,  西島 孝喜 ,  箱田 篤
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-362884
公開番号(公開出願番号):特開2004-191875
出願日: 2002年12月13日
公開日(公表日): 2004年07月08日
要約:
【課題】屈折率及び複屈折を精密に制御したベンゾオキサゾール共重合体を用いた光導波路及びその製造方法を提供すること。【解決手段】下記構造式(化1):【化1】で表される繰り返し単位と、下記構造式(化2):【化2】で表される繰り返し単位の少なくとも一方を含むベンゾオキサゾール共重合体を、コア及びクラッドの少なくとも一方に用いたことを特徴とする高分子光導波路。
請求項(抜粋):
下記構造式(化1):
IPC (3件):
G02B6/12 ,  C08G73/22 ,  G02B6/13
FI (3件):
G02B6/12 N ,  C08G73/22 ,  G02B6/12 M
Fターム (18件):
2H047KA04 ,  2H047KA05 ,  2H047PA02 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  4J043PA02 ,  4J043RA52 ,  4J043SA06 ,  4J043SA71 ,  4J043SB01 ,  4J043TA26 ,  4J043UA131 ,  4J043UA132 ,  4J043UB061 ,  4J043UB062 ,  4J043UB122
引用特許:
審査官引用 (4件)
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