レジスト処理装置および方法

発明者：
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：伊東哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-344762
公開番号（公開出願番号）：特開平7-183184
出願日： 1993年12月21日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：

【要約】【目的】半導体ウエハ等の基板上に塗布されたレジストを露光および現像して得られるレジストパターンをよりシャープにし、より微細で深いパターンの解像を実現する。【構成】画像露光後、現像前の基板上2のレジスト1、および/または現像中のレジスト、現像液および基板に電界をかける。また、露光前のレジストを基板の上下から個別の温度で熱処理する。

請求項（抜粋）：