特許
J-GLOBAL ID：200903068969200456

抵抗体及びその製造方法並びに保持装置

発明者：
坂上 勝伺

坂上 勝伺 について

, 
寺園 正喜

寺園 正喜 について


出願人/特許権者：
京セラ株式会社

京セラ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-224635
公開番号（公開出願番号）：特開2003-040674
出願日： 2001年07月25日
公開日（公表日）： 2003年02月13日
要約：
【要約】【課題】基板の直径や厚みが大きい場合においても、tanδが小さくかつ均一で、同一製品内のばらつきが少ない抵抗体及びその製造方法並びに被保持物の処理を均一に行うことのできる保持装置を提供する。【解決手段】抵抗体を、セラミック焼結体からなり、外周部及び中心部を含む複数の部位で測定した相対密度の平均値が98%以上、50°Cの体積固有抵抗値の平均値が107〜1012Ωcm、周波数1MHzにおける誘電損失の平均値が50×10-4以下、誘電損失の最大値と最小値の差が前記平均値の50%以下とすることにより、最大直径が200mm以上、厚みが0.5mm以上の大きな製品であっても、例えば静電チャック1として被処理物の処理を行った場合、同一面内における処理のばらつきを小さくすることができる。
請求項（抜粋）：
最大直径が200mm以上、厚みが0.5mm以上のセラミック焼結体からなり、外周部及び中心部を含む複数の部位で測定した相対密度の平均値が98%以上、50°Cの体積固有抵抗値の平均値が107〜1012Ωcm、周波数1MHzにおける誘電損失の平均値が50×10-4以下、誘電損失の最大値と最小値の差が前記平均値の50%以下であることを特徴とする抵抗体。
IPC (2件)：
C04B 35/581 ,  H01L 21/68
FI (4件)：
H01L 21/68 R ,  C04B 35/58 104 H ,  C04B 35/58 104 U ,  C04B 35/58 104 Y
Fターム (20件)：
4G001BA36 ,  4G001BA60 ,  4G001BA61 ,  4G001BA73 ,  4G001BB36 ,  4G001BB60 ,  4G001BB61 ,  4G001BB73 ,  4G001BC42 ,  4G001BC52 ,  4G001BC54 ,  4G001BD21 ,  4G001BD23 ,  4G001BE01 ,  5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA16 ,  5F031PA11 ,  5F031PA18
引用特許：
審査官引用 (1件)

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