特許

J-GLOBAL ID：200903068974125152

液処理装置及びその方法

発明者： 松山 雄二 ,  長峰 秀一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 井上 俊夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-246272
公開番号（公開出願番号）：特開2001-126982
出願日： 2000年08月15日
公開日（公表日）： 2001年05月11日
要約：

【要約】【課題】 ウエハへの処理液の供給を、ウエハの直径とほぼ同じ長さかまたはそれ以上の長さの供給領域を有する供給ノズルをスキャンして行う場合に、装置の大型化を抑え且つ装置の外側に処理液が漏れることを防止する液処理装置及びその方法を提供すること。【解決手段】 ウエハの周囲に設けるカップの上部側を四角筒状、下部側を円筒状とし、このカップは上方から見たとき、円筒状をなす部分が四角筒状をなす部分の内側に位置する形状とする。カップは昇降機構を有し、供給ノズルのスキャン時にはカップの上部側がウエハの側方に、洗浄液及び現像液の振り切り時にはカップの下部側がウエハの上方レベル及び下方レベルに跨る位置となるように制御部により制御される。なお供給ノズルのスキャンは、上部側カップの中に供給ノズルを位置させて行う。

請求項（抜粋）：

基板を水平に保持し、回転自在な基板保持部と、前記基板保持部に保持された基板の側方を囲み、上部側が四角筒状に、また下部側が円筒状に形成されたカップと、前記カップの内側の一辺に沿って伸び、基板に処理液を供給するノズルと、このノズルを前記カップの内側の一辺に隣接する辺に沿って移動させる移動機構と、前記基板保持部とカップとを相対的に昇降させるための昇降手段と、カップの上部側が供給ノズルの吐出孔の移動領域の側方に位置するレベルとカップの下部側が基板の側方に位置するレベルとの間で基板に対するカップの高さ位置を前記昇降手段を介して制御する制御手段と、を有することを特徴とする液処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  B05C 5/02 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  B05D 7/00 ,  G03F 7/30 502

FI (6件)：

B05C 5/02 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  B05D 7/00 H ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 569 C

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 現像方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-003994   出願人：大日本スクリーン製造株式会社