特許
J-GLOBAL ID：200903068975074969
塗布方法及び塗布装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中野 雅房
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-207867
公開番号（公開出願番号）：特開平10-028916
出願日： 1996年07月17日
公開日（公表日）： 1998年02月03日
要約：
【要約】【課題】 塗膜表面に筋を発生させることなく、均一な塗膜を得ることができる塗布装置を提供する。【解決手段】 塗布ヘッド5の内部には、塗布液Bに均一に圧力を加えるためのリザーバ41が設けられており、塗布ヘッド5の上面には、リザーバ41と連通した液溜まり43が形成されている。塗布液Bは圧力によってリザーバ41から液溜まり43へ押し出され、表面張力により液溜まり43の上に高く盛り上がる。この盛り上がった塗布液Bの表面をこするようにして塗布対象物Aが移動すると、粘着力により塗布対象物Aの下面に塗布液が付着し、塗膜Dが形成される。
請求項（抜粋）：
塗布ヘッドの上面に設けた液溜まりに塗布液を保持し、塗布液の表面張力によって塗布液を液溜まりから盛り上がらせ、液溜まりから盛り上がった塗布液に接触させながら塗布対象物を相対的に移動させることにより塗布対象物の下面に塗布液を塗布することを特徴とする塗布方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
審査官引用 (3件)
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基板塗布装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平6-124539
出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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基板への液塗布方法および装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平6-291723
出願人：大日本印刷株式会社
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特開平4-061958
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