特許
J-GLOBAL ID：200903069021545169
気液対向流式ガスハイドレート製造装置および製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
石井 博樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-228936
公開番号（公開出願番号）：特開2003-041275
出願日： 2001年07月30日
公開日（公表日）： 2003年02月13日
要約：
【要約】【課題】 生成槽内での気液接触時間を長くしてガスハイドレートを効率的に生成させることが可能なガスハイドレート製造装置および製造方法を提供すること。【解決手段】 水51とガス53とを反応させてガスハイドレート55を生成させるガスハイドレート製造装置100は、所定圧力および所定温度の下でガスハイドレート55を生成させる縦長の略筒形状の生成槽11と、該生成槽の頂部から水を連続的に導入するための水供給ポンプ17と、前記生成槽の下部からガスを気泡として水中に導入するガス散気機構31と、生成槽の底部から水を連続的に排出するための水排出手段19とを備え、生成槽11内に水51を連続的に供給、かつ排出することにより、浮力により上昇する気泡と対向する水流を形成するようにして、ガスハイドレート55を製造する。
請求項（抜粋）：
水とガスとを反応させてガスハイドレートを生成させるガスハイドレート製造装置であって、所定圧力および所定温度の下でガスハイドレートを生成させる生成槽と、該生成槽に水を導入するための水供給手段と、前記生成槽内の水にガスを気泡として導入するガス供給手段と、前記生成槽から水を排出するための水排出手段と、前記生成槽内で生成したガスハイドレートを排出するためのガスハイドレート排出手段と、を備え、前記生成槽内に水を供給し、かつ、排出することにより、浮力により水中を上昇する気泡と対向する水流を形成するようにしたことを特徴とする、ガスハイドレートの製造装置。
IPC (10件)：
C10L 3/06
, B01J 3/00
, B01J 3/02
, B01J 3/03
, B01J 19/00
, C07B 61/00
, C07B 63/02
, C07C 5/00
, C07C 7/20
, C07C 9/04
B01J 3/00 A
, B01J 3/02 A
, B01J 3/03 A
, B01J 19/00 A
, C07B 61/00 C
, C07B 63/02 B
, C07C 5/00
, C07C 7/20
, C07C 9/04
, C10L 3/00 A
4G075AA03
, 4G075AA04
, 4G075BB10
, 4G075BD03
, 4G075BD04
, 4G075BD13
, 4G075BD17
, 4G075BD23
, 4G075BD27
, 4G075CA03
, 4G075CA05
, 4G075CA51
, 4G075CA65
, 4G075CA66
, 4G075DA01
, 4G075EA01
, 4G075EA06
, 4G075EB01
, 4H006AA02
, 4H006AA04
, 4H006AC93
, 4H006AD33
, 4H006BC11
, 4H006BC18
, 4H006BD81
, 4H006BD82
, 4H006BD84
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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