特許

J-GLOBAL ID：200903069028511456

液体原料ガスの供給方法および装置

発明者： 小黒 暁二 ,  黒沢 靖志
出願人/特許権者： 信越半導体株式会社
代理人 (1件)： 舘野 公一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-204488
公開番号（公開出願番号）：特開平8-047629
出願日： 1994年08月05日
公開日（公表日）： 1996年02月20日
要約：

【要約】【目的】 液体原料の混合ガスを一定の濃度で高純度に保ち、1台のみならず複数の反応装置にも安定して供給する。【構成】 バブリングタンク13に液体原料31を収容して所定温度に保ち、キャリアガス41により液体原料31をバブリングしつつ蒸発させてキャリアガス41と液体原料31との混合ガスを発生させ、混合ガスを搬送途中で凝縮処理し、液化した液体原料31をバブリングタンク13に戻しながら、液化しなかった混合ガスを反応装置に供給する液体原料ガスの供給方法において、混合ガスの凝縮処理を一定に制御された圧力と温度の下で行い、反応装置に供給する混合ガスの濃度を一定に維持する。

請求項（抜粋）：

バブリングタンクに液体原料を収容して所定温度に保ち、キャリアガスにより前記液体原料をバブリングしつつ蒸発させてキャリアガスと液体原料との混合ガスを発生させ、該混合ガスを搬送途中で凝縮処理し、液化した液体原料をバブリングタンクに戻しながら、液化しなかった混合ガスを反応装置に供給する液体原料ガスの供給方法において、混合ガスの凝縮処理を一定に制御された圧力と温度の下で行い、反応装置に供給する混合ガスの濃度を一定に維持することを特徴とする液体原料ガスの供給方法。

IPC (4件)：

B01J 4/00 102 ,  C23C 16/44 ,  C30B 25/14 ,  H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭61-257232
  
• 特開昭63-176328
  
• 特開昭61-205635
  
• ガス供給装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-162225   出願人：信越半導体株式会社