特許
J-GLOBAL ID：200903069047202448

塗布・現像装置及び塗布・現像方法

発明者：
石田 省貴

石田 省貴 について

, 
山本 太郎

山本 太郎 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (2件)： 井上 俊夫 ,  水野 洋美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-344071
公開番号（公開出願番号）：特開2007-150071
出願日： 2005年11月29日
公開日（公表日）： 2007年06月14日
要約：
【課題】基板にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成し、その表面に液層を形成して液浸露光した後の基板に現像処理を行う装置において、レジスト膜の変質によるウエハ間のばらつきを抑えること。【解決手段】前記装置において、レジスト膜が形成された基板の表面を洗浄する洗浄部と、この洗浄部から基板を取り出して液浸露光を行うための露光装置に搬送するための搬送手段とを設け、前記洗浄部にて基板の表面に洗浄液が接触した時点から当該基板を露光装置に搬入するまでの時間が予め設定した設定時間、即ち前記基板の表面に前記洗浄液を供給した時点からの経過時間と当該基板表面における洗浄液の接触角の変化との関係において、接触角の低下速度が接触直後に比べて大幅に小さくなった時間帯にて基板が液浸露光されるように設定された時間となるように前記搬送手段を制御する。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
基板にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成し、液浸露光後の基板に対して現像処理を行う塗布・現像装置において、 レジスト膜が形成された基板の表面を洗浄する洗浄部と、 この洗浄部から基板を取り出して液浸露光を行うための露光装置に搬送するための搬送手段と、 前記洗浄部にて基板の表面に洗浄液が接触した時点から当該基板を露光装置に搬入するまでの時間が予め設定した設定時間となるように前記搬送手段を制御する制御部と、を備え、 前記設定時間は、前記基板の表面に前記洗浄液を供給した時点からの経過時間と当該基板表面における洗浄液の接触角との関係において、接触角の低下速度が接触直後に比べて大幅に小さくなった時間帯にて基板が液浸露光されるように設定された時間であることを特徴とする塗布・現像装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/677
FI (5件)：
H01L21/30 514D ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 515G ,  H01L21/30 515D ,  H01L21/68 A
Fターム (32件)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031HA48 ,  5F031HA59 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F031NA07 ,  5F031PA03 ,  5F046BA03 ,  5F046CC01 ,  5F046CC08 ,  5F046CD04 ,  5F046CD05 ,  5F046DA27
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (2件)

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