特許

J-GLOBAL ID：200903069108324878

プラズマディスプレイパネル用ガラス基板及びその製造方法

発明者： 西山 智弘
出願人/特許権者： 西山ステンレスケミカル株式会社
代理人 (1件)： 福島 三雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-026122
公開番号（公開出願番号）：特開2003-226553
出願日： 2002年02月01日
公開日（公表日）： 2003年08月12日
要約：

【要約】【課題】 従来よりもガラス基板表面の平坦性に優れたプラズマディスプレイ(PDP)用ガラス基板を提供すること、および歩留まり良く連続生産することができ、かつ化学研磨液の廃棄処分量を低減化できるPDP用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 ガラス基板1を化学研磨する作用を有する研磨成分と溶液粘度を増加させる作用を有する増粘剤を共に一定濃度含有し、かつ粘度が5×10-1〜5×105Pa・sの範囲にある研磨液4を、ガラス基板上に所定量だけ塗布してガラス基板の平坦化反応を進行させ、所定時間経過後に、平坦化反応に供した研磨液を洗浄する。

請求項（抜粋）：

ガラス基板を研磨液で化学研磨して得られるプラズマディスプレイパネル(PDP)用ガラス基板であって、100cm2当りにおける表面粗さが0.008μm以下であり、板厚ばらつきが50μm以下であることを特徴とするPDP用ガラス基板。

IPC (3件)：

C03C 15/02 ,  C03C 15/00 ,  C03C 23/00

FI (3件)：

C03C 15/02 ,  C03C 15/00 B ,  C03C 23/00 A

Fターム (8件)：

4G059AA08 ,  4G059AB09 ,  4G059AB11 ,  4G059AB13 ,  4G059AC03 ,  4G059BB04 ,  4G059BB12 ,  4G059BB16

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 磁気ディスク用基板の作製方法、その方法により得られた磁気ディスク用基板及び磁気記録媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-122781   出願人：日本板硝子株式会社
• 特公昭49-037347
  
• 特公昭47-014822