特許
J-GLOBAL ID：200903069121965203
接触反応管・回転ディスク反応器方式によるゼオライトの連続製造方法および連続製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-381616
公開番号（公開出願番号）：特開2002-187715
出願日： 2000年12月15日
公開日（公表日）： 2002年07月05日
要約：
【要約】【課題】 原料の種類や混合比の違いによる反応条件の変更が容易で、大量のゼオライトの製造にも対応可能であると共に安価に製造することができるゼオライトの連続製造方法及び連続製造装置を提供する。【解決手段】 任意のSi/Al比からなる固体原料及び/又は液体原料とアルカリ水溶液とを含有するゼオライト原料が所定の条件に設定された接触反応管15内を連続的に通過する管接触反応工程3と、その管接触反応工程3後におけるゼオライト中間組成物が多段の回転ディスク20を備える回転ディスク接触反応器16内を徐々に降下しながらその回転ディスク20で撹拌されて所望のゼオライトが生成される回転ディスク接触反応工程4と、を少なくとも有する接触反応管・回転ディスク反応器方式によるゼオライトの連続製造方法・装置によって、上記課題を解決する。
請求項（抜粋）：
任意のSi/Al比からなる固体原料及び/又は液体原料とアルカリ水溶液とを含有するゼオライト原料が所定の条件に設定された接触反応管内を連続的に通過してゼオライト中間組成物が生成される管接触反応工程と、前記ゼオライト中間組成物が回転ディスク接触反応器内に設けられた多段の回転ディスクで順次撹拌されて所望のゼオライトが生成される回転ディスク接触反応工程と、を少なくとも有することを特徴とする接触反応管・回転ディスク反応器方式によるゼオライトの連続製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (9件)：
4G073CZ01
, 4G073CZ02
, 4G073CZ03
, 4G073CZ08
, 4G073CZ16
, 4G073FB03
, 4G073FB04
, 4G073FC01
, 4G073FD02
