特許
J-GLOBAL ID:200903069144182370
電磁線を放出するための半導体構造素子およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
矢野 敏雄 (外4名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-562790
公開番号(公開出願番号):特表2003-524901
出願日: 2001年02月23日
公開日(公表日): 2003年08月19日
要約:
【要約】本発明により、電磁線、特に光を放出するための半導体構造素子が提供され、該構造素子は以下の特徴:放射線を発生するための活性層、活性層と導電性に結合しているp-接触部、活性層と導電性に結合しているn-接触部、および電流通路を限定するための電流制限構造体を有し、電流制限構造体がn-接触部と活性層の間に備えられている。
請求項(抜粋):
a)放射線を発生するための活性層(6)、b)活性層(6)と導電性に結合しているp-接触部(9)、c)活性層(6)と導電性に結合しているn-接触部(10)、およびd)電流通路を限定するための電流制限構造体(5)を有し、この場合に電流制限構造体(5)がn-接触部(10)と活性層(6)の間に備えられている、電磁線、特に光を放出するための半導体構造素子。
IPC (2件):
H01S 5/343 610
, H01L 33/00
FI (2件):
H01S 5/343 610
, H01L 33/00 C
Fターム (25件):
5F041AA21
, 5F041AA40
, 5F041AA44
, 5F041CA04
, 5F041CA05
, 5F041CA33
, 5F041CA34
, 5F041CA40
, 5F041CA51
, 5F041CA65
, 5F041CA71
, 5F041CA72
, 5F041CA73
, 5F041CB04
, 5F073AA08
, 5F073AA74
, 5F073CA17
, 5F073CB02
, 5F073CB04
, 5F073CB07
, 5F073DA05
, 5F073DA12
, 5F073DA14
, 5F073DA16
, 5F073EA23
引用特許:
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