特許
J-GLOBAL ID:200903069144182370

電磁線を放出するための半導体構造素子およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 矢野 敏雄 (外4名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-562790
公開番号(公開出願番号):特表2003-524901
出願日: 2001年02月23日
公開日(公表日): 2003年08月19日
要約:
【要約】本発明により、電磁線、特に光を放出するための半導体構造素子が提供され、該構造素子は以下の特徴:放射線を発生するための活性層、活性層と導電性に結合しているp-接触部、活性層と導電性に結合しているn-接触部、および電流通路を限定するための電流制限構造体を有し、電流制限構造体がn-接触部と活性層の間に備えられている。
請求項(抜粋):
a)放射線を発生するための活性層(6)、b)活性層(6)と導電性に結合しているp-接触部(9)、c)活性層(6)と導電性に結合しているn-接触部(10)、およびd)電流通路を限定するための電流制限構造体(5)を有し、この場合に電流制限構造体(5)がn-接触部(10)と活性層(6)の間に備えられている、電磁線、特に光を放出するための半導体構造素子。
IPC (2件):
H01S 5/343 610 ,  H01L 33/00
FI (2件):
H01S 5/343 610 ,  H01L 33/00 C
Fターム (25件):
5F041AA21 ,  5F041AA40 ,  5F041AA44 ,  5F041CA04 ,  5F041CA05 ,  5F041CA33 ,  5F041CA34 ,  5F041CA40 ,  5F041CA51 ,  5F041CA65 ,  5F041CA71 ,  5F041CA72 ,  5F041CA73 ,  5F041CB04 ,  5F073AA08 ,  5F073AA74 ,  5F073CA17 ,  5F073CB02 ,  5F073CB04 ,  5F073CB07 ,  5F073DA05 ,  5F073DA12 ,  5F073DA14 ,  5F073DA16 ,  5F073EA23
引用特許:
審査官引用 (9件)
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