特許
J-GLOBAL ID：200903069163845100
半導体装置の製造システムおよびそれを用いた半導体装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-196661
公開番号（公開出願番号）：特開平10-041203
出願日： 1996年07月25日
公開日（公表日）： 1998年02月13日
要約：
【要約】【課題】 各製造装置の適切なクリーニング処理によって稼働率を低下させることなく歩留を向上させることが可能な半導体装置の製造システムおよびそれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。【解決手段】 半導体ウェハの製造中の各工程における少なくとも異物に関するデータを集中的に管理するための一括管理手段(5)とその一括管理手段によるデータに基づいてクリーニングすべき工程を判別するための判別手段(5)とを備えている。
請求項（抜粋）：
半導体ウェハの製造工程中の各工程における異物に関するデータを集中的に管理するための一括管理手段と、前記一括管理手段によるデータに基づいてクリーニングすべき工程を判別するための判別手段とを備えた、半導体装置の製造システム。
引用特許：
前のページに戻る
