特許
J-GLOBAL ID：200903069164562412
高分子光導波路の作製方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
谷 義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-093774
公開番号（公開出願番号）：特開平8-286064
出願日： 1995年04月19日
公開日（公表日）： 1996年11月01日
要約：
【要約】【目的】 多様なニーズに合わせ、しかも、大量、少量生産に関わり無く、高性能な導波路型光素子を安価で簡便に作製できる作製法を提供することを目的とする。【構成】 高分子光導波路の作製方法は、基板上にクラッドとなる高分子からなる第1層を形成する工程と、該第1層よりも屈折率が高い高分子からなる第2層を形成する工程と、該第2層の一部をダイシングゾー等でもって機械的に切削除去することによってコア部を形成する工程と、該コア部より屈折率が低い高分子材料でコア部を覆う第3層を形成する工程とを有する。
請求項（抜粋）：
基板上にクラッドとなる高分子からなる第1層を形成する工程と、該第1層よりも屈折率が高い高分子からなる第2層を形成する工程と、該第2層の一部を機械的に切削除去することによってコア部を形成する工程と、該コア部より屈折率が低い高分子材料で前記コア部を覆う第3層を形成する工程とを有することを特徴とする高分子光導波路の作製方法。
引用特許：
前のページに戻る
