光源装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：瀧野秀雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-088136
公開番号（公開出願番号）：特開平10-278341
出願日： 1997年04月07日
公開日（公表日）： 1998年10月20日
要約：

【要約】【課題】構成部品数が少なく、組立時に位置ズレを生じるおそれがなく、コリメータレンズを光硬化型の接着剤を用いて接着することができ、温度環境による特性変化が少ない、安価にして高精度な光源装置を提供する。【解決手段】表裏に貫通する複数の嵌合孔を有するベースと、ベース裏面側に位置して前記嵌合孔にそれぞれ嵌着される複数の半導体レーザと、嵌合孔のベース表面側のレンズ支持部に、半導体レーザの光軸と各々同軸に接着固定された複数のコリメータレンズと、コリメータレンズより出射されるレーザ光を整形する複数のアパーチャと、レーザ光をほぼ同軸に合成するためのビーム合成手段とを有する光源装置に関する。レンズ支持部の中心線は複数のコリメータレンズから出射されるビームピッチ方向に対して、ほぼ直交方向に位置する。接着剤の収縮及び伸縮の影響がビームピッチ方向に発生しない。

請求項（抜粋）：

表裏に貫通する複数の嵌合孔を有するベースと、該ベース裏面側に位置して前記嵌合孔にそれぞれ嵌着される複数の半導体レーザと、前記嵌合孔のベース表面側のレンズ支持部に、前記半導体レーザの光軸と各々同軸に接着固定された複数のコリメータレンズと、前記コリメータレンズより出射されるレーザ光を整形する複数のアパーチャと、前記レーザ光をほぼ同軸に合成するためのビーム合成手段とを有する光源装置において、前記各々のレンズ支持部の中心線は前記複数のコリメータレンズから出射されるビームピッチ方向に対して、ほぼ直交方向に位置することを特徴とする光源装置。

IPC (3件)：

B41J 2/44 , G02B 7/18 , H01S 3/103

FI (3件)：

B41J 3/00 D , H01S 3/103 , G02B 7/18 A

引用特許：

審査官引用 (3件)

マルチビーム走査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-325643 出願人：株式会社リコー
光源装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-212598 出願人：株式会社リコー
走査光学装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-242160 出願人：キヤノン株式会社

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