特許

J-GLOBAL ID：200903069201208098

堆積膜の形成方法

発明者： 植田 重教 ,  村山 仁 ,  田澤 大介 ,  河村 邦正
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-049665
公開番号（公開出願番号）：特開2008-214659
出願日： 2007年02月28日
公開日（公表日）： 2008年09月18日
要約：

【課題】 電子写真用感光体に使用可能な堆積膜の形成に於いて、良質な堆積膜の形成及び画像欠陥の低減が可能な堆積膜の形成方法を提供することにある。【解決手段】 減圧可能な反応容器内に導電性基体を設置し、該反応容器内に供給した原料ガスを高周波電力によって分解し、該導電性基体上に珪素を母体とする非単結晶膜を形成する堆積膜形成工程により形成される堆積膜の形成方法であって、該堆積膜形成工程は13.4Pa以下の内圧であって、該堆積膜形成工程に、内圧を上げる工程と内圧を下げる工程からなる内圧変化工程を有し、該内圧変化工程は、該原料ガス種及び該原料ガスの供給比率が一定である堆積膜形成工程中に内圧を変化させる工程である事を特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

減圧可能な反応容器内に導電性基体を設置し、該反応容器内に供給した原料ガスを高周波電力によって分解し、該導電性基体上に珪素を母体とする非単結晶膜を形成する堆積膜の形成方法であって、 該堆積膜形成工程は13.4Pa以下の内圧であって、該堆積膜形成工程に、内圧を上げる工程と内圧を下げる工程からなる内圧変化工程を有し、該内圧変化工程は、該原料ガス種及び該原料ガスの供給比率が一定である堆積膜形成工程中に内圧を変化させる工程である事を特徴とする堆積膜の形成方法。

IPC (3件)：

C23C 16/455 ,  G03G 5/08 ,  H01L 21/205

FI (10件)：

C23C16/455 ,  G03G5/08 360 ,  G03G5/08 105 ,  G03G5/08 312 ,  G03G5/08 315 ,  G03G5/08 332 ,  G03G5/08 333 ,  G03G5/08 335 ,  G03G5/08 313 ,  H01L21/205

Fターム (39件)：

2H068DA23 ,  2H068DA25 ,  2H068DA27 ,  2H068DA37 ,  2H068DA53 ,  2H068DA55 ,  2H068DA57 ,  2H068DA67 ,  2H068EA24 ,  4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030AA17 ,  4K030BA30 ,  4K030BA37 ,  4K030BB12 ,  4K030CA02 ,  4K030CA16 ,  4K030EA03 ,  4K030EA11 ,  4K030FA01 ,  4K030GA05 ,  4K030JA01 ,  4K030JA09 ,  4K030LA17 ,  5F045AA08 ,  5F045AB04 ,  5F045AC01 ,  5F045AC07 ,  5F045AC19 ,  5F045AD06 ,  5F045AE17 ,  5F045AF10 ,  5F045BB16 ,  5F045CA16 ,  5F045DP13 ,  5F045DP27 ,  5F045DQ05 ,  5F045EE17 ,  5F045EG06

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特許第3320228号公報
  
• 光受容部材の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-148146   出願人：キヤノン株式会社
• 特許第3178375号公報