アミノ酸関連残基を含有する多孔性シリカから成る複合構造体およびその製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：筒井知
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-045914
公開番号（公開出願番号）：特開2003-246615
出願日： 2002年02月22日
公開日（公表日）： 2003年09月02日
要約：

【要約】【課題】平行ベータシート型のペプチド等の生体モデル等として有用な材料となり得る新規な人工構造体を提供する。【解決手段】ナノメートルサイズの直径の細孔を有する多孔性シリカの内部に式X-A-Yで表わされる界面活性物質(Xはカチオン性または非イオン性の親水部を表わし、Yは脂肪族炭化水素または芳香族炭化水素から成る疎水部を表わし、Aはアミノ酸残基またはその修飾体を表わす)が含有されている複合構造体。前記界面活性物質、シリカ源、ゾルゲル反応触媒および水を含む反応溶液を調製してゾルゲル反応を行い、生じたゲルをろ過した後、乾燥することによって製造される。

請求項（抜粋）：

ナノメートルサイズの直径の細孔を有する多孔性シリカの内部に下記の式(1)で表わされる界面活性物質が含有されていることを特徴とする複合構造体。【化1】〔式(1)中、Xはカチオン性または非イオン性の親水部を表わし、Yは脂肪族炭化水素または芳香族炭化水素から成る疎水部を表わし、Aは下記の式(2)で表わされるアミノ酸残基またはその修飾体を表わす。〕【化2】〔式(2)中、Rは-NH-CH-CO-とともにアミノ酸残基を構成する官能基または原子団を表わし、nは1から10の整数である。〕

IPC (3件)：

C01B 33/12 , C07K 5/00 , C07K 7/06

FI (3件)：

C01B 33/12 A , C07K 5/00 , C07K 7/06

Fターム (25件)：

4G072AA25 , 4G072AA38 , 4G072BB15 , 4G072HH14 , 4G072HH30 , 4G072JJ47 , 4G072KK17 , 4G072LL06 , 4G072MM01 , 4G072PP17 , 4G072UU30 , 4H045AA10 , 4H045AA20 , 4H045BA11 , 4H045BA12 , 4H045BA13 , 4H045BA14 , 4H045BA15 , 4H045BA50 , 4H045BA63 , 4H045EA50 , 4H045EA61 , 4H045EA65 , 4H045FA20 , 4H045FA84

引用特許：

出願人引用 (4件)

シリカ-界面活性剤ナノ複合体及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-105667 出願人：理化学研究所
メソポーラスシリカの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-076705 出願人：旭化成株式会社
多孔体の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-150299 出願人：株式会社豊田中央研究所

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