特許
J-GLOBAL ID：200903045835105600
高結晶性シリカメソ多孔体薄膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-309625
公開番号（公開出願番号）：特開2001-130911
出願日： 1999年10月29日
公開日（公表日）： 2001年05月15日
要約：
【要約】【課題】 表面に周期性を有しない基板上でシリカメソ多孔体の薄膜形成を行った場合においても、広い面積で細孔配列の均一性を高くすることが可能な高結晶性シリカメソ多孔体薄膜の製造方法を提供すること。【解決手段】 シリコンアルコキシドを酸性溶媒中で反応させシリコンアルコキシド部分重合体を含む液体を得る部分重合工程と、前記液体に界面活性剤を添加して、前記シリコンアルコキシド部分重合体と該界面活性剤とからなる複合体を形成せしめる複合体形成工程と、前記複合体を含む液体のpHを3以下に調整して複合体安定化物を得る安定化工程と、前記複合体安定化物を含む液体を薄膜化し加熱乾燥して前記複合体安定化物を反応させることにより、前記界面活性剤を含有したシリカメソ多孔体薄膜を形成せしめる薄膜形成工程とを含むことを特徴とする高結晶性シリカメソ多孔体薄膜の製造方法。
請求項（抜粋）：
シリコンアルコキシドを酸性溶媒中で反応させシリコンアルコキシド部分重合体を含む液体を得る部分重合工程と、前記液体に界面活性剤を添加して、前記シリコンアルコキシド部分重合体と該界面活性剤とからなる複合体を形成せしめる複合体形成工程と、前記複合体を含む液体のpHを3以下に調整して複合体安定化物を得る安定化工程と、前記複合体安定化物を含む液体を薄膜化し加熱乾燥して前記複合体安定化物を反応させることにより、前記界面活性剤を含有したシリカメソ多孔体薄膜を形成せしめる薄膜形成工程と、を含むことを特徴とする高結晶性シリカメソ多孔体薄膜の製造方法。
Fターム (14件)：
4G072AA29
, 4G072BB09
, 4G072BB15
, 4G072FF09
, 4G072GG03
, 4G072HH30
, 4G072JJ14
, 4G072KK17
, 4G072LL15
, 4G072NN21
, 4G072PP17
, 4G072QQ05
, 4G072UU01
, 4G072UU30
