特許
J-GLOBAL ID：200903069328545964
誘導加熱ローラ装置、定着装置および画像形成装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小野田 芳弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-328317
公開番号（公開出願番号）：特開2005-093353
出願日： 2003年09月19日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：
【課題】 加熱ローラの一部および/または全部の加熱領域を使用して被加熱体を加熱する際に、加熱ローラの軸方向の温度分布をほぼ均一にした誘導加熱ローラ装置、これを備えた定着装置および画像形成装置を提供する。 【解決手段】 誘導加熱ローラ装置は、加熱ローラHRと、複数の誘導コイルIC1、IC2を含む誘導コイル装置ICと、これに高周波電力を供給する高周波電源HFSと、加熱ローラHRの一の加熱領域Aを使用して被加熱体を加熱するときには、加熱領域Aに対向する誘導コイルIC1に投入する高周波電力の誘導コイル装置ICの全体に投入される高周波電力Wに対する高周波電力比Wa/Wを所定割合にすると同時に、残余の誘導コイルIC2に対しては残余の高周波電力Wbを振り分けることによって残余の加熱領域Bを一の加熱領域Aの温度とほぼ同等に保温するように制御する高周波電力振分手段PAMとを具備している。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
後記誘導コイル装置に磁気結合して誘導電流により発熱するとともに、被加熱体のサイズに応じて複数の加熱領域に切り換えることができる加熱ローラと;
加熱ローラの軸方向に分散して配設されるとともに、加熱ローラの各加熱領域にそれぞれ対向して配設された複数の誘導コイルを含む誘導コイル装置と;
誘導コイル装置に高周波電力を供給する高周波電源と;
加熱ローラの一の加熱領域を使用して被加熱体を加熱するときには、当該加熱領域に対向する一の誘導コイルに投入する高周波電力の誘導コイル装置の全体に投入される高周波電力に対する高周波電力比を所定割合にすると同時に、残余の誘導コイルに対しては残余の高周波電力を振り分けることによって残余の加熱領域を一の加熱領域の温度とほぼ同等に保温するように制御する高周波電力振分手段と;
を具備していることを特徴とする誘導加熱ローラ装置。
IPC (3件)：
H05B6/06
, G03G15/20
, H05B6/14
H05B6/06 393
, G03G15/20 101
, G03G15/20 109
, H05B6/14
2H033AA03
, 2H033AA25
, 2H033BA27
, 2H033BB03
, 2H033BB04
, 2H033BB05
, 2H033BB06
, 2H033BB13
, 2H033BB19
, 2H033BE06
, 2H033CA28
, 2H033CA30
, 2H033CA40
, 2H033CA48
, 3K059AA08
, 3K059AB19
, 3K059AB20
, 3K059AB28
, 3K059AC09
, 3K059AC12
, 3K059AC54
, 3K059AD05
, 3K059AD10
, 3K059AD25
, 3K059CD03
, 3K059CD13
, 3K059CD14
, 3K059CD18
