フォトマスク及び露光方法並びに投影露光装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-006406
公開番号（公開出願番号）：特開平5-188577
出願日： 1992年01月17日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：

【要約】【目的】レチクルパターンを高解像度、大焦点深度で投影露光する。【構成】レチクル1のパターンRP1 に対向するようにそのガラス面に、照明光を回折するための回折格子パターンRG1 を形成し、ここで回折した±1次回折光を、レチクルパターンRP1 のピッチPR に対応した角度だけレチクル1に対して傾けてレチクルパターンRP1 に照射する。【効果】照明光学系の改良を行うことなく、レチクルパターンに対する傾斜照明が可能となる。

請求項（抜粋）：

所定波長の照明光に対してほぼ透明な基板に形成された周期性のパターン部分を有する微細パターンを感光基板へ転写するために用いられるフォトマスクにおいて、前記微細パターンに対して前記照明光の入射側に所定間隔だけ離して配置された前記照明光を偏向させるための偏向部材を備えたことを特徴とするフォトマスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 301 P , H01L 21/30 311 L

引用特許：

審査官引用 (2件)

投影露光装置用マスク
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-197457 出願人：日本電信電話株式会社
特開平2-056286

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