特許
J-GLOBAL ID:200903069421119100
InSb薄膜基板
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-127576
公開番号(公開出願番号):特開2001-308410
出願日: 2000年04月27日
公開日(公表日): 2001年11月02日
要約:
【要約】【課題】 磁電変換素子に応用できる高感度で信頼性の高いInSb薄膜基板を得る。【解決手段】 基板1A,1B上に、第1層にSb膜3を形成し、その上に化学量論組成のInSb化合物半導体結晶膜5を成膜形成したことを特徴とするInSb薄膜基板10。
請求項(抜粋):
基板上に、第1層にSb膜を形成し、その上に化学量論組成のInSb化合物半導体結晶膜を成膜形成したことを特徴とするInSb薄膜基板。
IPC (4件):
H01L 43/06
, H01L 21/203
, C23C 14/06
, C23C 14/08
FI (4件):
H01L 43/06 S
, H01L 21/203 Z
, C23C 14/06 N
, C23C 14/08 N
Fターム (28件):
4K029AA04
, 4K029AA24
, 4K029BA14
, 4K029BA21
, 4K029BA44
, 4K029BA46
, 4K029BA58
, 4K029BA60
, 4K029BB08
, 4K029BC06
, 4K029BD11
, 4K029CA01
, 4K029CA06
, 4K029DB03
, 4K029DB04
, 4K029DB05
, 4K029DB10
, 4K029DB18
, 4K029DC39
, 5F103AA01
, 5F103BB02
, 5F103DD12
, 5F103GG02
, 5F103HH04
, 5F103LL20
, 5F103NN01
, 5F103RR05
, 5F103RR06
引用特許:
審査官引用 (3件)
-
磁気センサ装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-317918
出願人:松下電子工業株式会社
-
特開平2-241069
-
特開平2-241069
前のページに戻る