特許
J-GLOBAL ID:200903069421119100

InSb薄膜基板

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-127576
公開番号(公開出願番号):特開2001-308410
出願日: 2000年04月27日
公開日(公表日): 2001年11月02日
要約:
【要約】【課題】 磁電変換素子に応用できる高感度で信頼性の高いInSb薄膜基板を得る。【解決手段】 基板1A,1B上に、第1層にSb膜3を形成し、その上に化学量論組成のInSb化合物半導体結晶膜5を成膜形成したことを特徴とするInSb薄膜基板10。
請求項(抜粋):
基板上に、第1層にSb膜を形成し、その上に化学量論組成のInSb化合物半導体結晶膜を成膜形成したことを特徴とするInSb薄膜基板。
IPC (4件):
H01L 43/06 ,  H01L 21/203 ,  C23C 14/06 ,  C23C 14/08
FI (4件):
H01L 43/06 S ,  H01L 21/203 Z ,  C23C 14/06 N ,  C23C 14/08 N
Fターム (28件):
4K029AA04 ,  4K029AA24 ,  4K029BA14 ,  4K029BA21 ,  4K029BA44 ,  4K029BA46 ,  4K029BA58 ,  4K029BA60 ,  4K029BB08 ,  4K029BC06 ,  4K029BD11 ,  4K029CA01 ,  4K029CA06 ,  4K029DB03 ,  4K029DB04 ,  4K029DB05 ,  4K029DB10 ,  4K029DB18 ,  4K029DC39 ,  5F103AA01 ,  5F103BB02 ,  5F103DD12 ,  5F103GG02 ,  5F103HH04 ,  5F103LL20 ,  5F103NN01 ,  5F103RR05 ,  5F103RR06
引用特許:
審査官引用 (3件)

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