多孔質シリカ系被膜形成用塗布液、被膜付基材および短繊維状シリカ

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-225659
公開番号（公開出願番号）：特開平11-061043
出願日： 1997年08月07日
公開日（公表日）： 1999年03月05日
要約：

【要約】【課題】被塗布面との密着性、機械的強度、耐薬品性、耐クラック性に優れた絶縁膜を形成でき、被塗布面の凹凸を高度に平坦化し得るような多孔質シリカ系被膜形成用塗布液、このように優れた性質を有する多孔質シリカ系被膜が形成された被膜付基材、短繊維状シリカを提供すること。【解決手段】 (i) 短繊維状シリカと、(ii)XnSi(OR)4-nで表されるアルコキシシランまたはXnSX'4-nで表されるハロゲン化シランの加水分解物との反応物を含有することを特徴とする多孔質シリカ系被膜形成用塗布液(式中、Xは水素,フッ素,炭素数1〜8のアルキル基,アリール基またはビニル基、Rは水素,炭素数1〜8のアルキル基,アリール基またはビニル基、X'は塩素または臭素を示し、nは0〜3の整数である)。上記多孔質シリカ系被膜形成用塗布液を用いて形成された多孔質シリカ系被膜を有する被膜付基材。平均直径(D)が10〜30nmであり、長さ(L)が30〜100nmであり、アスペクト比(L/D)が3〜10である短繊維状シリカ。

請求項（抜粋）：

(i) 短繊維状シリカと、(ii)下記一般式[1]で表されるアルコキシシランまたは下記一般式[2]で表されるハロゲン化シランの加水分解物との反応物を含有することを特徴とする多孔質シリカ系被膜形成用塗布液。XnSi(OR)4-n ...[1]XnSX'4-n ...[2](式中、Xは水素原子,フッ素原子,炭素数1〜8のアルキル基,アリール基またはビニル基を示し、Rは水素原子,炭素数1〜8のアルキル基,アリール基またはビニル基を示し、X'は塩素原子または臭素原子を示し、nは0〜3の整数である。)

IPC (3件)：

C09D183/04 , C08L 83/04 , C09D 7/12

FI (3件)：

C09D183/04 , C08L 83/04 , C09D 7/12

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平1-163275
特開平1-317115
特開平4-065314

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