特許

J-GLOBAL ID：200903069493001464

洗浄方法および装置

発明者： 前川 敏郎 ,  小野 耕司 ,  岡田 素明 ,  高橋 圭瑞 ,  三島 志朗 ,  小寺 雅子 ,  重田 厚 ,  青木 利一郎 ,  河野 義介
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所 ,  株式会社東芝
代理人 (1件)： 渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-129588
公開番号（公開出願番号）：特開平8-071511
出願日： 1995年04月28日
公開日（公表日）： 1996年03月19日
要約：

【要約】【目的】 サブミクロンレベルのパーティクルに対して効果的な洗浄を行うことができ、また、基板表面に頑強に付着しているパーティクルや表面の微細な傷(マイクロスクラッチ)を表面を薄く削り取ることによって除去し、さらに洗浄時はパーティクルを保持し洗浄後にセルフクリーニングが容易な洗浄方法およびその装置を提供する。【構成】 被洗浄物との接触面に平均細孔サイズで10から200μmの微細な孔を有するポリウレタンを主成分とする洗浄部材3を被洗浄物に当接させてスクラブ洗浄する。

請求項（抜粋）：

被洗浄物との接触面に平均細孔サイズで10から200μmの微細な孔を有するポリウレタンを主成分とする洗浄部材を被洗浄物に当接させてスクラブ洗浄することを特徴とする洗浄方法。

IPC (2件)：

B08B 1/00 ,  H01L 21/304 341

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-257209   出願人：大日本スクリーン製造株式会社