基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-023233
公開番号（公開出願番号）：特開平11-224893
出願日： 1998年02月04日
公開日（公表日）： 1999年08月17日
要約：

【要約】【課題】所定の処理後の基板の清浄度を容易に維持することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置に組み込まれた基板搬送ロボットに基板を保持する保持柱35Rが設けられている。保持柱35Rの側面は、保持柱35Rの軸を中心とする周方向に5つの領域AR1、AR2、AR3、AR4、AR5に分割されている。これら領域のうち、処理前の基板は未処理基板保持領域AR4によって、洗浄液が付着した処理中基板は処理中基板保持領域AR3によって、また洗浄処理および乾燥処理が終了した処理後基板は処理後基板保持領域AR5によって保持される。そして、処理中基板保持領域AR3の両側には溝35Xが設けられ、処理中基板保持領域AR3に付着した洗浄液の液滴LGが隣接する領域に流出するのを防止している。

請求項（抜粋）：

複数の基板を収容可能なカセットと基板に所定の処理を施す処理手段との間で前記複数の基板を搬送する基板処理装置であって、(a) 前記複数の基板のそれぞれの外縁部を側方より保持する複数の保持領域を有する2つの保持柱と、(b) 前記2つの保持柱に保持動作を行わせる保持駆動源と、を備え、前記処理手段は、前記複数の基板に所定の処理液による液処理を施す液処理手段、を含み、前記複数の保持領域は、前記保持柱の側面を前記保持柱の軸を中心とする周方向に分割した領域であって、前記液処理手段による液処理中の前記複数の基板を保持する処理中基板保持領域を含み、前記周方向に関して前記処理中基板保持領域の周辺境界部分を規定する箇所に、前記保持柱の長手方向に伸びる溝を設けることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 , H01L 21/304 648

FI (2件)：

H01L 21/68 A , H01L 21/304 648 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-166465 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平2-103949
特開平2-103949

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