光線を光学的に均質化するための配置および装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：西教圭一郎 , 杉山毅至 , 廣瀬峰太郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-521410
公開番号（公開出願番号）：特表2004-521398
出願日： 2002年06月03日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：

2つの互いに実質的に向かい合っている光学的に機能する境界面を有する、光線を光学的に均質化するための装置であって、該境界面は、光線(2,5)のための入射面(7)として、および出射面(8)として用いることができ、入射面(7)と出射面(8)は、少なくとも部分的にレンズに類似した構造物を有し、前記入射面(7)と出射面(8)との上に形成される構造物は、交互に相並んで配置された凸状部分(9,11)と凹状部分(10,12)として形成され、凸状部分(9,11)と凹状部分(10,12)との間の移行部は、相対的に滑らかに形成されている。さらに本発明は、上述した種類の装置(3)を有する、光線を光学的に均質化するための配置に関する。

請求項（抜粋）：

2つの互いに実質的に向かい合っている光学的に機能する境界面を有する、光線を光学的に均質化するための装置であって、境界面は、光線(2,5)のための入射面(7)として、および出射面(8)として用いることが可能であり、入射面(7)と出射面(8)とは、少なくとも部分的にレンズに類似した構造を呈している、光線を光学的に均質化するための装置において、入射面(7)と出射面(8)との上に形成された構造物は、交互に相並んで配置された凸状部分(9,11)と凹状部分(10,12)として形成され、凸状部分(9,11)と凹状部分(10,12)との間の移行部は、相対的に滑らかに形成されることを特徴とする光線を光学的に均質化するための装置。

IPC (2件)：

G02B5/02 , G02B3/00

FI (2件)：

G02B5/02 C , G02B3/00 Z

Fターム (3件)：

2H042AA03 , 2H042BA04 , 2H042BA14

引用特許：

審査官引用 (7件)

レーザ加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-133589 出願人：日本電気株式会社
特開昭62-080617
特開昭61-156218

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