磁気記録媒体、磁気記憶装置、及び磁気記録媒体の製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-390714
公開番号（公開出願番号）：特開2005-158092
出願日： 2003年11月20日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：

【課題】薄膜化が可能で、耐蝕性及び耐久性に優れ保護膜を備え、高密度記録が可能な磁気記録媒体、その磁気記憶装置、及び磁気記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】磁気記録媒体10は、基板11と、基板11上に下地層12、非磁性中間層13、磁性層14、保護膜16が順次積層され、さらに保護膜16上に潤滑層18が形成された構成となっている。磁性層14と保護膜16との界面にある界面混合層15は保護膜16を成膜した際に自己形成的に形成される。保護膜を形成する際に、基板バイアスを負電圧で0V以上80V未満の範囲に設定し、さらに必要に応じて成膜中の雰囲気ガス圧力を5Pa〜10Paの範囲に設定することにより、界面混合層15の形成を抑制あるいは防止する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板と、該基板の上方に設けられた磁性層と、該磁性層上に設けられた保護膜と、該保護膜上に設けられた潤滑層を有する磁気記録媒体の製造方法であって、保護膜材料のイオンを用いて真空プロセス成膜法により前記保護膜を形成する保護膜形成工程とを備え、前記保護膜形成工程において基板バイアスを負電圧で0V以上80V未満の範囲に設定することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

IPC (2件)：

G11B5/84 , G11B5/72

FI (2件)：

G11B5/84 B , G11B5/72

Fターム (15件)：

5D006AA02 , 5D006AA05 , 5D006DA03 , 5D006FA00 , 5D006FA01 , 5D006FA02 , 5D112AA07 , 5D112AA24 , 5D112BC04 , 5D112BC05 , 5D112FA01 , 5D112FA10 , 5D112FB19 , 5D112FB26 , 5D112GA30

引用特許：

出願人引用 (4件)

磁気記録媒体及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-274958 出願人：富士通株式会社
磁気記録媒体とその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-278937 出願人：富士通株式会社
磁気記録媒体及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-284525 出願人：富士写真フイルム株式会社

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