特許

J-GLOBAL ID：200903069659647767

酸化チタン薄膜とその製造方法及び酸化チタン薄膜の積層体

発明者： 坂倉 治
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-019482
公開番号（公開出願番号）：特開2003-221672
出願日： 2002年01月29日
公開日（公表日）： 2003年08月08日
要約：

【要約】【課題】 優れた光触媒作用と光透過性を有し、しかも、特に透明性が要請される種々の構造物を構成する部材に光触媒作用を兼ね備えさせることを可能にした酸化チタン薄膜とその製造方法、さらに酸化チタン薄膜を最表面に有する積層体を提供することを目的とする。【解決手段】 酸化チタン薄膜は、CVD法による出発原料がチタンアルコキシド[Ti(OR)4、R;アルキル基]であり、そのチタンアルコキシドをガス化して、反応室内に導入し、アルコキシドがプラズマ中で部分酸化され、炭素がエステル結合して、チタンを含むガスとプラズマにより成膜した酸化チタン薄膜において、チタンに対する炭素の相対原子比が0.3〜0.8である。

請求項（抜粋）：

CVD法による出発原料がチタンアルコキシド[Ti(OR)4、R;アルキル基]であり、そのチタンアルコキシドをガス化して、反応室内に導入し、アルコキシドがプラズマ中で部分酸化され、炭素がエステル結合し、チタンを含むガスとプラズマにより成膜した酸化チタン薄膜において、チタンに対する炭素の相対原子比が0.3〜0.8であることを特徴とする酸化チタン薄膜。

IPC (6件)：

C23C 16/40 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  B32B 9/00 ,  B32B 27/00 ,  C01G 23/04

FI (6件)：

C23C 16/40 ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J ,  B32B 9/00 A ,  B32B 27/00 Z ,  C01G 23/04 C

Fターム (43件)：

4F100AA21B ,  4F100AK01A ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100EH66B ,  4F100JL08 ,  4F100JM02B ,  4F100JN01B ,  4F100JN18B ,  4F100YY00B ,  4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA02B ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA08A ,  4G069BA08B ,  4G069BA22A ,  4G069BA22B ,  4G069BA27C ,  4G069BA48A ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069CA17 ,  4G069DA06 ,  4G069EA08 ,  4G069FA02 ,  4G069FB03 ,  4K030AA11 ,  4K030BA27 ,  4K030BA46 ,  4K030CA07 ,  4K030CA11 ,  4K030CA12 ,  4K030FA01 ,  4K030JA01 ,  4K030JA06 ,  4K030LA11 ,  4K030LA24

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 積層フィルムの製造方法および反射防止フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-081810   出願人：大日本印刷株式会社
• 親水性複合材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-350444   出願人：東陶機器株式会社