特許
J-GLOBAL ID:200903069681586550
粘土薄膜の製造方法及び粘土薄膜
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-275533
公開番号(公開出願番号):特開2007-084386
出願日: 2005年09月22日
公開日(公表日): 2007年04月05日
要約:
【課題】液晶や有機ELディスプレー用のフィルム基板として利用するに十分な表面平坦性を有する粘土薄膜を製造する方法を提供する。【解決手段】粘土または粘土と添加剤からなり、粘土粒子が配向して積層した構造を有する粘土薄膜の製造方法であって、粘土または粘土と添加剤を、水、有機溶剤、又は水と有機溶剤との混合溶媒よりなる分散媒に分散させ、粘土ペーストを作製するペースト作製工程と、該粘土ペーストを基材上に塗布し薄膜を形成する塗布工程と、該薄膜を平坦化する平坦化工程と、該薄膜から水、有機溶剤、又は水と有機溶剤を除去する乾燥工程と、該基材から該薄膜を剥離する剥離工程とを有することを特徴とする。粘土薄膜の表面粗さRaは100nm以下である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
粘土または粘土と添加剤からなり、粘土粒子が配向して積層した構造を有する粘土薄膜の製造方法であって、粘土または粘土と添加剤を、水、有機溶剤、又は水と有機溶剤との混合溶媒よりなる分散媒に分散させ、粘土ペーストを作製するペースト作製工程と、該粘土ペーストを基材上に塗布し薄膜を形成する塗布工程と、該薄膜を平坦化する平坦化工程と、該薄膜から水、有機溶剤、又は水と有機溶剤を除去する乾燥工程と、該基材から該薄膜を剥離する剥離工程とを有することを特徴とする粘土薄膜の製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
C01B33/40
, G02F1/1333 500
Fターム (13件):
2H090JB01
, 2H090JC01
, 2H090JC06
, 2H090JC08
, 2H090JD11
, 2H090JD12
, 2H090JD14
, 2H090JD17
, 3K007CA00
, 3K007DB03
, 4G073BD18
, 4G073CM14
, 4G073CN02
引用特許:
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