特許
J-GLOBAL ID:200903069683966458
プラズマディスプレイパネルの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大井 正彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-196304
公開番号(公開出願番号):特開平9-102273
出願日: 1996年07月25日
公開日(公表日): 1997年04月15日
要約:
【要約】【課題】 膜厚の大きい誘電体層を効率的に形成することができる新規な形成工程を含むプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供すること。【解決手段】 支持フィルム上に形成された膜形成材料層を、電極が固定されたガラス基板の表面に転写し、転写された膜形成材料層を焼成することにより、前記ガラス基板の表面に誘電体層を形成する工程を含むことを特徴とする。
請求項(抜粋):
支持フィルム上に形成された膜形成材料層を、電極が固定されたガラス基板の表面に転写し、転写された膜形成材料層を焼成することにより、前記ガラス基板の表面に誘電体層を形成する工程を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
H01J 9/02 F
, C03C 17/04 B
引用特許:
審査官引用 (5件)
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プラズマディスプレイパネルの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-056660
出願人:富士通株式会社
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特開平4-147535
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特開平2-051444
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特公平2-001100
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特開平2-209487
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