プラズマ処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-229536
公開番号（公開出願番号）：特開平9-074086
出願日： 1995年09月06日
公開日（公表日）： 1997年03月18日
要約：

【要約】【目的】大気圧下または真空下でのプラズマ処理装置において、ウエハまたは基板上のチャージアップ・ダメージを解消すると共に高速処理を実現する。【構成】気体導入部10よりガスが導入され反応室に供給される。反応室は一対の対向電極11、15が取り付けられており、これらの対向電極11は同調回路18を経由して高周波電源16に接続されている。もう一方の対向電極15は可変コンデンサー20を介して高周波電源およびアースに接続されている。【効果】被処理物が置かれるステージとアース間の静電容量を制御することにより被処理物への電荷の移動を制限するこができ高速に処理すると共に被処理物のチャージアップ・ダメージを防止できる。また、被処理物を処理する電極とは別に放電を起動するための電極によりプラズマの形成を容易にできる。

請求項（抜粋）：

対向した電極間での放電または無電極放電等によるプラズマ処理を行なう際にウエハまたは基板等の被処理物が置かれるステージとアース間の静電容量を制御する静電容量制御手段を有することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 , C23C 16/50 , C23F 4/00 , H05H 1/46

FI (5件)：

H01L 21/302 C , C23C 16/50 , C23F 4/00 A , H05H 1/46 M , H05H 1/46 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-313271
特開昭63-133632
低圧誘導結合プラズマ点火装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-263351 出願人：エルエスアイロジックコーポレーション

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