特許
J-GLOBAL ID:200903069746417131

ビフェニル化合物及びそれらの発情剤としての利用

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 倉内 基弘 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-527366
公開番号(公開出願番号):特表2000-504003
出願日: 1997年01月30日
公開日(公表日): 2000年04月04日
要約:
【要約】式(I)の化合物(式中、[X]は、芳香族炭素環(A)及び(B)を表し、ここに、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 及びR7 は、説明中に規定してある)、これらの塩、これらの製造のための方法及び中間体、これらの薬物としての利用、並びにこれらを含む製薬組成物を開示する。
請求項(抜粋):
下記の一般式(I)の化合物:{式中、[X]は、下記の芳香族炭素環を表す:[式中、R1 は1〜4炭素原子を含むアルキル基又は水素原子を表し、R2 は、1〜4炭素原子を含むアルキル基又は水素原子を表し、R3 、水素原子、ハロゲン原子、1〜4炭素原子を含むアルキル基又は1〜4炭素原子を含むアルコキシ基を表し、R4 (パラ又はメタ位置)は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、4個以下の炭素原子を含むアルキル、アルケニル若しくはアルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基(アルキルは1〜4炭素原子を含む)、-NRA RB 基(RA 及びRB は、同じか又は異なって、水素原子、1〜4炭素原子を含むアルキル基を表し又はそれらが結合する窒素と共に5若しくは6員の飽和ヘテロ環(適宜、窒素、酸素及び硫黄から選択する第2のヘテロ原子を含む)を形成し、それらの-NRA RB 基は適宜酸化型である)、一般式-O-(CH2 )n-NRA RB の基(式中、nは2〜7の整数であり、-NRA RB は上記の通りである)であり、R5 は、水素原子又はハロゲン原子を表し、R6 及びR7 は、同じか又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、1〜4炭素原子を含むアルキル基、又は上記のR4 基により適宜メタ若しくはパラ位置が置換されたフェニル基並びに酸又は塩基付加塩を表し、但し、[X]が、R1 、R2 、R3 が水素原子であり且つR4 が水酸基を表す基(A)を表す式(I)の化合物及び[X]が、R5 、R6 及びR7 が水素原子であり又はR5 及びR6 が水素原子であり且つR7 が1〜4炭素原子を含むアルキル基を表す基(B)を表す式(I)の化合物を除く]}。
IPC (5件):
C07C 39/38 ,  A61P 5/30 ,  A61P 15/12 ,  A61K 31/055 ,  C07C217/20
FI (5件):
C07C 39/38 ,  A61K 31/00 606 C ,  A61K 31/00 615 H ,  A61K 31/055 ,  C07C217/20
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開平3-157656
  • 特許第2682678号
  • 特表平6-507987
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引用文献:
審査官引用 (12件)
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