特許
J-GLOBAL ID:200903069795076455

加熱装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高梨 幸雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-039967
公開番号(公開出願番号):特開2004-253177
出願日: 2003年02月18日
公開日(公表日): 2004年09月09日
要約:
【課題】表面加熱方式の加熱装置において、被加熱材加熱用の回転体の回転1周目と2周目以降の被加熱材加熱ムラ現象を防止し、定着装置にあってはその加熱ムラ現象に起因するグロスムラを防止する。【解決手段】回転体1と、前記回転体1とニップN1を形成する対向部材3と、前記回転体1を前記ニップN1とは異なる回転体表面部位N2で加熱する加熱部材2と、前記加熱部材2による回転体加熱温度を制御する温度制御手段5・100・101と、を具備し、前記ニップN1に被加熱材Pを挿通して挟持搬送させ前記回転体1の熱により加熱する加熱装置10であって、前記温度制御手段5・100・101は前記ニップN1に対する被加熱材挿通開始後、前記回転体1が一周分回転する前に、前記加熱部材2の制御温度を上げることを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
回転体と、前記回転体とニップを形成する対向部材と、前記回転体を前記ニップとは異なる回転体表面部位で加熱する加熱部材と、前記加熱部材による回転体加熱温度を制御する温度制御手段と、を具備し、前記ニップに被加熱材を挿通して挟持搬送させ前記回転体の熱により加熱する加熱装置であって、 前記温度制御手段は前記ニップに対する被加熱材挿通開始後、前記回転体が一周分回転する前に、前記加熱部材の制御温度を上げることを特徴とする加熱装置。
IPC (2件):
H05B3/00 ,  G03G15/20
FI (3件):
H05B3/00 310E ,  H05B3/00 335 ,  G03G15/20 109
Fターム (20件):
2H033AA02 ,  2H033BA25 ,  2H033BA26 ,  2H033BA27 ,  2H033BA30 ,  2H033BB18 ,  2H033BB23 ,  2H033BB38 ,  2H033CA07 ,  2H033CA22 ,  2H033CA30 ,  2H033CA48 ,  3K058AA01 ,  3K058AA64 ,  3K058AA65 ,  3K058AA86 ,  3K058BA18 ,  3K058CA12 ,  3K058CA22 ,  3K058CA61
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 定着装置・画像形成装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-357445   出願人:株式会社リコー
  • 定着装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-219781   出願人:キヤノン株式会社
審査官引用 (2件)
  • 定着装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-219781   出願人:キヤノン株式会社
  • 定着装置・画像形成装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-357445   出願人:株式会社リコー

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