特許
J-GLOBAL ID：200903069861988118
頭髪洗浄料
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 祐司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-356398
公開番号（公開出願番号）：特開2003-160449
出願日： 2001年11月21日
公開日（公表日）： 2003年06月03日
要約：
【要約】【課題】 本発明の目的は、使用性、保湿効果、保温効果に優れた頭髪洗浄料を提供することにある。【解決手段】 下記一般式化1で示されるアルキレンオキシド誘導体を含有することを特徴とする頭髪洗浄料。【化1】R1O-[(AO)m(EO)n]-R2(式中、AOは炭素数3〜4のオキシアルキレン基、EOはオキシエチレン基、mおよびnはそれぞれ炭素数3〜4のオキシアルキレン基、オキシエチレン基の平均付加モル数で、1≦m≦70、1≦n≦70であり、オキシアルキレン基とオキシエチレン基の合計に対するオキシエチレン基の割合が、20〜80質量%である。オキシアルキレン基とオキシエチレン基はブロック状に付加していてもランダム状に付加していてもよい。R1およびR2は同一もしくは異なっていてもよい炭素数1〜4の炭化水素基または水素原子であり、R1およびR2の炭化水素基数に対する水素原子数の割合が0.15以下である。)
請求項（抜粋）：
下記一般式化1で示されるアルキレンオキシド誘導体を含有することを特徴とする頭髪洗浄料。【化1】R1O-[(AO)m(EO)n]-R2(式中、AOは炭素数3〜4のオキシアルキレン基、EOはオキシエチレン基、mおよびnはそれぞれ炭素数3〜4のオキシアルキレン基、オキシエチレン基の平均付加モル数で、1≦m≦70、1≦n≦70であり、オキシアルキレン基とオキシエチレン基の合計に対するオキシエチレン基の割合が、20〜80質量%である。オキシアルキレン基とオキシエチレン基はブロック状に付加していてもランダム状に付加していてもよい。R1およびR2は同一もしくは異なっていてもよい炭素数1〜4の炭化水素基または水素原子であり、R1およびR2の炭化水素基数に対する水素原子数の割合が0.15以下である。)
Fターム (20件)：
4C083AC122
, 4C083AC152
, 4C083AC292
, 4C083AC312
, 4C083AC392
, 4C083AC532
, 4C083AC642
, 4C083AC712
, 4C083AC782
, 4C083AD041
, 4C083AD042
, 4C083AD051
, 4C083AD052
, 4C083AD132
, 4C083BB01
, 4C083CC38
, 4C083DD01
, 4C083DD27
, 4C083EE06
, 4C083EE07
