特許
J-GLOBAL ID:200903069886098478

レーザハイブリッド加熱方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 工業技術院四国工業技術研究所長 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-174581
公開番号(公開出願番号):特開2001-001170
出願日: 1999年06月21日
公開日(公表日): 2001年01月09日
要約:
【要約】【課題】 金属材料表面に赤外レーザビームを照射して加熱するに際し、上記レーザビームの吸収効率を高めると共に、該レーザビームの反射を抑制する方法を提供する。【解決手段】 金属材料表面(7)に赤外レーザビーム(4)を照射して、該表面を熱加工するに当り、KrFエキシマレーザパルスビーム(10)を上記赤外レーザビーム(4)に重畳させて金属材料表面(7)に照射し、該表面近傍に高密度プラズマを発生させると共に、そのプラズマに上記赤外レーザビーム(4)を吸収させる。
請求項(抜粋):
金属材料表面に赤外レーザビームを照射して、該表面を熱加工するに当り、KrFエキシマレーザパルスビームを同時に照射して、該表面近傍に高密度プラズマを誘起させ、そのプラズマに赤外レーザビームを吸収させることを特徴とするレーザハイブリッド加熱方法。
IPC (2件):
B23K 26/00 ,  B23K 26/12
FI (2件):
B23K 26/00 A ,  B23K 26/12
Fターム (3件):
4E068AA05 ,  4E068CD02 ,  4E068CF00
引用特許:
審査官引用 (2件)

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