特許
J-GLOBAL ID：200903069896206678
リソグラフィー用ペリクル
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-243943
公開番号（公開出願番号）：特開2001-066760
出願日： 1999年08月30日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
要約：
【要約】【課題】 短波長の真空紫外光を長時間照射しても、光劣化したり分解することのない長寿命で、かつ光透過率が高く経時変化のない高性能なペリクル膜からなるペリクルを提供する。【解決手段】 リソグラフィーに使用されるペリクルにおいて、その膜材料として炭素原子とフッ素原子のみからなる透明フッ素ポリマーを使用することを特徴とするリソグラフィー用ペリクルであり、前記透明フッ素ポリマーが下記一般式[1]で表されるペルフルオロアルキル基からなる環状部分を含有する真空紫外光用のリソグラフィー用ペリクル。【化10】
請求項（抜粋）：
リソグラフィーに使用されるペリクルにおいて、その膜材料として炭素原子とフッ素原子のみからなる透明フッ素ポリマーを使用することを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。
IPC (3件)：
G03F 1/14
, C08F114/18
, H01L 21/027
G03F 1/14 J
, C08F114/18
, H01L 21/30 502 P
2H095BA07
, 2H095BC33
, 4J100AC26P
, 4J100AR03Q
, 4J100BB07Q
, 4J100BB12Q
, 4J100BB18Q
, 4J100CA04
, 4J100DA62
, 4J100JA32
, 4J100JA43
