特許
J-GLOBAL ID:200903069898354631
X線発生装置
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-084941
公開番号(公開出願番号):特開2001-267096
出願日: 2000年03月24日
公開日(公表日): 2001年09月28日
要約:
【要約】【課題】 レーザ-プラズマを用いたX線光源や放電プラズマを用いたX線光源では標的材料や装置の一部の破片が後段の光学素子の表面に付着して光学特性を劣化させる。特に、X線縮小露光系の光源として用いる場合、フライアイに入射する光量分布が光軸に対して対称である必要性があるが、上述の劣化が軸対称でなくなる。本発明は、飛散粒子による光学素子の劣化を光軸に対称にすることを目的とする。【解決手段】 飛散粒子を受ける光学素子を光軸を中心として回転させるようにする。
請求項(抜粋):
パルスレーザー光を減圧された容器中の標的材料に集光することにより該標的材料をプラズマ化し、該プラズマより輻射されるX線を利用するX線発生装置(以下では、レーザープラズマX線源,LPXと呼ぶ)あるいは放電により標的材料をプラズマ化し該プラズマより輻射されるX線を利用するX線発生装置(以下では、放電プラズマX線源と呼ぶ)に於いて、該プラズマから輻射されたX線が最初に入射する光学素子または該プラズマを含む真空容器内に置かれている光学素子が該光学素子の回転対称軸あるいはX線の光軸を中心に回転する機構を具備していることを特徴とするX線発生装置。
IPC (4件):
H05G 2/00
, G21K 1/00
, G21K 1/06
, G21K 5/02
FI (6件):
G21K 1/00 X
, G21K 1/06 B
, G21K 1/06 K
, G21K 1/06 M
, G21K 5/02 X
, H05G 1/00 K
Fターム (8件):
4C092AA06
, 4C092AA14
, 4C092AB19
, 4C092AC08
, 4C092BE02
, 4C092CC03
, 4C092CE18
, 4C092CF42
引用特許:
審査官引用 (5件)
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特開平2-005334
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X線装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-305201
出願人:株式会社ニコン
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微小領域平行光線照射装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-055752
出願人:株式会社ニコン
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X線発生装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-259060
出願人:株式会社ニコン
-
軟X線光源装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-279699
出願人:株式会社ニコン
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