特許
J-GLOBAL ID:200903072456148910
X線装置
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-305201
公開番号(公開出願番号):特開平8-159991
出願日: 1994年12月08日
公開日(公表日): 1996年06月21日
要約:
【要約】【目的】 X線光学素子へのX線照射量を増大するために、該X線光学素子をX線源に十分近づけることが可能でありしかもX線源から放出される飛散粒子(放出物質)が該X線光学素子に付着、堆積する量を低減して、該X線光学素子の性能低下を防止することができるX線装置を提供すること。【構成】 少なくとも、X線源105,106 と、該X線源105,106 から射出されるX線108 が入射するX線光学素子109 とを備えたX線装置において、前記X線光学素子109 を加熱して、該X線光学素子109 に付着、堆積する、或いは付着堆積しようとする前記X線源105,106 からの放出物質107 を蒸発させる加熱部110 を設けたことを特徴とするX線装置。
請求項(抜粋):
少なくとも、X線源と、該X線源から射出されるX線が入射するX線光学素子とを備えたX線装置において、前記X線光学素子を加熱して、該X線光学素子に付着、堆積する、或いは付着堆積しようとする前記X線源からの放出物質を蒸発させる加熱部を設けたことを特徴とするX線装置。
引用特許:
審査官引用 (7件)
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X線発生装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-230783
出願人:株式会社ニコン
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特開平4-258799
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X線露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-295457
出願人:株式会社ニコン
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投影露光方法およびその装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-094067
出願人:株式会社日立製作所
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X線発生装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-109872
出願人:株式会社ニコン
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特開平2-033900
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特開昭63-002300
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