特許

J-GLOBAL ID：200903069912053593

露光装置

発明者： 楢木 剛
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-090348
公開番号（公開出願番号）：特開平8-264426
出願日： 1995年03月23日
公開日（公表日）： 1996年10月11日
要約：

【要約】【目的】 スポット内の光量を有効に使用する。【構成】 プレート50の端の部分を帯状に露光する場合、図4(B)に示されるように、回転手段によってプレート50上のスポット光の照射領域SP1 、SP2 をプレート50表面上で回転させることにより、スポット光の相対走査により露光される帯状部分の幅を変更することができるので、露光すべき領域の幅w1 、w2 が変更された場合であってもその幅に照射領域SP1 、SP2 の幅をほぼ合わせることができる。また、露光幅当たりの露光エネルギーを増加させることが可能となる。スポット光によるプレート50上の照射領域の幅方向のエッジをブラインド28A、28Bで設定することにより、スポット光を回転させたことによりスポット光の相対走査時に帯状露光領域とこれに隣接する領域との境目付近に生じる像ボケの幅を一定にできる。

請求項（抜粋）：

表面に感光層が形成された基板上に所定形状のスポット光を照射して前記感光層を感光させる露光装置であって、前記基板が載置される基板ステージと;前記スポット光を前記基板ステージに対し所定の一方向に沿って相対走査する相対走査手段と;前記スポット光の照射領域を前記基板表面上で回転させる回転手段とを有する露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G02F 1/136 500 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 577 ,  G02F 1/136 500 ,  G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 周辺露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-065090   出願人：株式会社ニコン