特許
J-GLOBAL ID:200903069916937364

含浸処理方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 渡邉 勇 ,  堀田 信太郎 ,  小杉 良二 ,  森 友宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-285520
公開番号(公開出願番号):特開2004-123398
出願日: 2002年09月30日
公開日(公表日): 2004年04月22日
要約:
【課題】内部に中空部を有する被処理物であっても効果的に含浸処理することができる含浸処理方法及び装置を提供する。【解決手段】内部に中空部20bを有するワーク20を収容可能な含浸槽2と、含浸槽2に接続された真空ポンプ3と、含浸槽2に導入する含浸液4を貯留する含浸液タンク5と、ワーク20の中空部20bに接続された真空ポンプ32とを備える。ワーク20の中空部20bを減圧し、含浸槽2を減圧し、含浸槽2に含浸液4を導入してワーク20を含浸液に浸漬する。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
被処理物の内部に形成された中空部を減圧し、 前記被処理物を収容した含浸槽を減圧し、 前記含浸槽に含浸液を導入して前記被処理物を前記含浸液に浸漬することを特徴とする含浸処理方法。
IPC (5件):
C04B41/45 ,  B05C3/09 ,  B05D1/18 ,  B22D29/00 ,  C23C26/00
FI (5件):
C04B41/45 ,  B05C3/09 ,  B05D1/18 ,  B22D29/00 H ,  C23C26/00 K
Fターム (31件):
4D075AB03 ,  4D075AB16 ,  4D075AB55 ,  4D075CA02 ,  4D075CA33 ,  4D075CA44 ,  4D075CA47 ,  4D075DA13 ,  4D075DA25 ,  4D075DB01 ,  4D075DB12 ,  4D075DB14 ,  4D075DB20 ,  4D075DC18 ,  4D075EA05 ,  4D075EB02 ,  4F040AA09 ,  4F040AA12 ,  4F040AB04 ,  4F040AC02 ,  4F040BA42 ,  4F040CC02 ,  4F040CC05 ,  4F040DA04 ,  4K044AA01 ,  4K044AA13 ,  4K044AB08 ,  4K044BA14 ,  4K044BA21 ,  4K044BC02 ,  4K044CA59
引用特許:
審査官引用 (5件)
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